2020.02.27

KLA, 새로운 IC 계측 시스템 출시

편집부 | ITWorld
KLA는 집적회로(IC) 제조를 위한 아처(Archer) 750 이미징 기반 오버레이 계측 시스템과 스펙트라셰이프(SpectraShape) 11k 광학 임계치수(Critical Dimension, 이하 CD)를 선보였다. 



아처 750은 칩의 각 레이어가 구성됨에 따라 패턴 형상이 이전 층의 형상과 제대로 정렬이 되는지 검증하며, 스펙트라셰이프 11k는 트랜지스터와 메모리 셀 등의 3D 구조를 모니터링하여 스펙이 유지되도록 한다. 해당 신규 계측 시스템은 패턴 정렬 또는 형상의 섬세한 차이를 파악해 IC 제조업체들이 5G, AI, 데이터센터 및 엣지 컴퓨팅 등의 애플리케이션에서 사용되는 고성능 메모리 및 로직 칩을 시장에 출시함에 있어서 요구되는 복잡한 공정을 엄격하게 제어한다.

아처 750 오버레이 계측 시스템은 공정 변동이 존재하는 상황에서 오버레이 오류를 정확하고 견고하게 측정함과 동시에 이전에는 산란계측(scatterometry-based) 기반의 오버레이 시스템에서만 가능했던 생산성 수준을 달성한다고 업체 측은 설명했다.

이 시스템은 다양한 층에서 신속하고 정확한 피드백을 제공해 사진 식각 엔지니어들이 첨단 로직, DRAM 및 3D NAND 소자의 안정적인 생산과 빠른 수율 개선을 실현하도록 인라인에서 공정 이탈점을 파악하고 전반적인 패터닝 완성도를 향상시키는 작업을 지원한다.

스펙트라셰이프 11k CD 및 차원 형상 계측 시스템은 감도와 생산성을 높은 수준으로 조합해서 이전에는 접근 불가능했던 웨이퍼 형상, 구조 및 소재를 지원한다. 첨단 로직, DRAM 및 3D NAND 소자 형상을 고정밀도와 높은 속도로 측정할 수 있는 역량을 보유한 스펙트라셰이프 11k는 공정 문제를 빠르게 파악하고 생산 가동 중 공정을 엄격히 모니터링을 가능하게 한다. editor@itworld.co.kr


KLA
2020.02.27

KLA, 새로운 IC 계측 시스템 출시

편집부 | ITWorld
KLA는 집적회로(IC) 제조를 위한 아처(Archer) 750 이미징 기반 오버레이 계측 시스템과 스펙트라셰이프(SpectraShape) 11k 광학 임계치수(Critical Dimension, 이하 CD)를 선보였다. 



아처 750은 칩의 각 레이어가 구성됨에 따라 패턴 형상이 이전 층의 형상과 제대로 정렬이 되는지 검증하며, 스펙트라셰이프 11k는 트랜지스터와 메모리 셀 등의 3D 구조를 모니터링하여 스펙이 유지되도록 한다. 해당 신규 계측 시스템은 패턴 정렬 또는 형상의 섬세한 차이를 파악해 IC 제조업체들이 5G, AI, 데이터센터 및 엣지 컴퓨팅 등의 애플리케이션에서 사용되는 고성능 메모리 및 로직 칩을 시장에 출시함에 있어서 요구되는 복잡한 공정을 엄격하게 제어한다.

아처 750 오버레이 계측 시스템은 공정 변동이 존재하는 상황에서 오버레이 오류를 정확하고 견고하게 측정함과 동시에 이전에는 산란계측(scatterometry-based) 기반의 오버레이 시스템에서만 가능했던 생산성 수준을 달성한다고 업체 측은 설명했다.

이 시스템은 다양한 층에서 신속하고 정확한 피드백을 제공해 사진 식각 엔지니어들이 첨단 로직, DRAM 및 3D NAND 소자의 안정적인 생산과 빠른 수율 개선을 실현하도록 인라인에서 공정 이탈점을 파악하고 전반적인 패터닝 완성도를 향상시키는 작업을 지원한다.

스펙트라셰이프 11k CD 및 차원 형상 계측 시스템은 감도와 생산성을 높은 수준으로 조합해서 이전에는 접근 불가능했던 웨이퍼 형상, 구조 및 소재를 지원한다. 첨단 로직, DRAM 및 3D NAND 소자 형상을 고정밀도와 높은 속도로 측정할 수 있는 역량을 보유한 스펙트라셰이프 11k는 공정 문제를 빠르게 파악하고 생산 가동 중 공정을 엄격히 모니터링을 가능하게 한다. editor@itworld.co.kr


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